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產(chǎn)品中心
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PCE-6小型等離子清洗機(jī)的等離子腔體為 Ø160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率為3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機(jī)主要是通過(guò)空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來(lái)去除基片上的氧化層和污染物，同時(shí)也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對(duì)于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)，專為處理顆粒、粉末樣品而設(shè)計(jì)。在等離子體作用下，一些材料很容易發(fā)生斷鍵和聚合，轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)可以高效率的處理微細(xì)的甚至分子級(jí)別的超細(xì)粉末材料，改變了傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無(wú)法處理顆粒、粉末樣品的問(wèn)題。該機(jī)同樣也可以處理非粉末的樣品，實(shí)現(xiàn)了一機(jī)多用的功能。
GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒(méi)有真空條件的環(huán)境下活化和清理材料（如單晶片、光學(xué)元件、塑料等）表面雜質(zhì)，且清理速度迅速。本機(jī)是為獲得高質(zhì)量的外延薄膜或光學(xué)涂層進(jìn)行預(yù)先表面處理的合適的工具選擇。具有一個(gè)樣品臺(tái)，將樣品固定在樣品臺(tái)上后可進(jìn)行X
VTC-200-CE半柜式清洗機(jī)采用直線導(dǎo)軌控制柱狀液流沿 wafer.半徑方向來(lái)回掃動(dòng),同時(shí)配備有去離子水淸洗和氮?dú)獯蹈晒δ?采用高精度伺服電機(jī)控制 wafer的旋轉(zhuǎn),由七寸全彩觸屏進(jìn)行操作，全不銹鋼機(jī)柜,耐魔蝕透明觀察蓋,絲桿直線導(dǎo)軌,不銹鋼內(nèi)腔,設(shè)計(jì)合理,經(jīng)久耐用。伺服馬達(dá)控制旋轉(zhuǎn)速度和時(shí)間,自動(dòng)控制顯影、清洗和吹干,顯影/清洗均勻性和重復(fù)性好。
PCE-22-LD紫外臭氧清洗機(jī)采用不需要任何溶劑的干式清洗技術(shù)，對(duì)清洗表面沒(méi)有損傷。采用大功率低壓石英汞燈，產(chǎn)生波長(zhǎng)185nm和254nm的紫外線，185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的臭氧分子O3，254nm的光同時(shí)激發(fā)清洗表面的有機(jī)分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時(shí)間短，且同時(shí)也被254nm的光分解，因此可調(diào)節(jié)樣品臺(tái)到燈管的距離來(lái)優(yōu)化性能。
PCE-3等離子清洗機(jī)使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級(jí)有機(jī)物污染，在射頻電源的作用下，Z大去除速率為10nm/min。在單晶材料外延薄膜生長(zhǎng)以前對(duì)其進(jìn)行預(yù)處理，將對(duì)生長(zhǎng)具有顯著的作用。
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