單靶磁控濺射儀

簡要描述：VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

產(chǎn)品型號：VTC-16-1HD
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-05-30
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品牌	其他品牌	價格區(qū)間	面議
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。單靶磁控濺射儀配備有一個靶槍，可選擇強磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非導(dǎo)磁材料的濺射鍍膜，強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

1、一個靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、靶頭在樣品臺正下方，脆性靶材安裝更方便，樣品不易被污染。
3、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
4、體積小，操作簡便。

產(chǎn)品名稱	VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號	VTC-16-1HD
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要
主要參數(shù)	1、電源電壓：220v 50Hz 2、功率：900W 3、腔體內(nèi)徑：φ164mm 4、極限真空度:9.0×10-4Pa 5、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（根據(jù)實際需要提升溫度） 6、靶槍數(shù)量：1個（在真空室下方） 7、靶槍冷卻方式:水冷 8、靶材尺寸：φ2〞，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 9、樣品臺：φ86mm 10、樣品臺:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)。 11、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。 12、開關(guān)蓋方式：自動升降上蓋。 13、工作氣體:Ar等惰性氣體。進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計進(jìn)氣，1-100SCCM可調(diào)。
產(chǎn)品規(guī)格	14、產(chǎn)品規(guī)格： ·尺寸：主機尺寸：750mm×450mm×1020mm 真空室規(guī)格：φ164×172mm ·重量：100kg
標(biāo)準(zhǔn)配件	1直流電源控制系統(tǒng)1套 2射頻電源控制系統(tǒng)1套 3分子泵（德國進(jìn)口或者國產(chǎn)更大抽速）1臺 4冷水機1臺 5冷卻水管（Ø6mm）2根
可選配件	1、金、銦、銀、白金等各種靶材，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。 2、膜厚檢測系統(tǒng)。

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